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光學(xué)平臺使用時注意事項

發(fā)布時間:2022.01.18 閱讀量:1763

光學(xué)平臺作為當代精密實驗不可缺少的一種設(shè)備,在光學(xué)研究中的應(yīng)用具有非常大的潛力。使用光學(xué)平臺為各類精密光學(xué)實驗提供一個穩(wěn)定的振動隔離環(huán)境,已經(jīng)是光學(xué)實驗室的重要組成部分。



隨著光學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展,發(fā)達國家都把光學(xué)儀器作為提高國防科技的強有力的支柱產(chǎn)業(yè),已涉及科研,國防,教學(xué)的方方面面。光學(xué)平臺在許多方面都發(fā)展著極其重要的作用,其研發(fā)和制造水平在一定程度上已成為反映一個國家光學(xué)研究發(fā)達程度的標志。

光學(xué)平臺使用時注意事項

1、 請勿用酸性液體清洗本產(chǎn)品,以免破壞產(chǎn)品表面質(zhì)量;

2、 請勿放置在高溫、潮濕及高強度振源處;

3、 請勿用水沖洗;

4、 如長時間處于一種狀態(tài)下,請用水平儀調(diào)整臺面水平;

5、 工作臺面上擱置的任何設(shè)備或工具,都必須小心輕放,盡量不要相對磨擦,以避免損傷工作臺面,降低使用精度;

6、 工作臺面安裝孔,是用于固定設(shè)備的M6螺孔,使用時避免用力過大,影響工作臺精度。


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