機(jī)器設(shè)備在運(yùn)行的過程中，會不可避免的產(chǎn)生不同程度的振動，不同的部分以及不同時(shí)間段不同狀態(tài)下產(chǎn)生的振動形式也是有差別的。

機(jī)器產(chǎn)生振動的根本原因，在于存在一個或幾個力的激勵。不同性質(zhì)的力激起不同的振動類型。據(jù)此，可以將機(jī)械振動分為三種類型：

1）自由振動

給系統(tǒng)一定的能量后，系統(tǒng)所產(chǎn)生的振動。若系統(tǒng)無阻尼，則系統(tǒng)維持等幅振動；若系統(tǒng)有阻尼，則系統(tǒng)為衰減振動。

自由振動產(chǎn)生的原因主要與外界環(huán)境有很大關(guān)系，外界環(huán)境的影響會導(dǎo)致切削力發(fā)生突然性的變化。它所產(chǎn)生的沖擊力對于整個系統(tǒng)的平衡有很大的影響，從而產(chǎn)生自由振動。

2）受迫振動

元件或系統(tǒng)的振動是由周期變化的外力作用所引起的，如不平衡、不對中所引起的振動。這種振動會在一定時(shí)間內(nèi)保持固定的振幅，因此，這種振動對于加工產(chǎn)生的影響也很嚴(yán)重。

3）自激振動

在沒有外力作用下，只是由于系統(tǒng)自身的原因所產(chǎn)生的激勵而引起的振動，如油膜振蕩、喘振等。

自激振動的產(chǎn)生大多不會因?yàn)橥饨绲沫h(huán)境周期影響，主要是因?yàn)橄到y(tǒng)內(nèi)部的周期性變化所產(chǎn)生的。在一般的情況下，機(jī)械加工過程中的工件會隨著刀具產(chǎn)生相對運(yùn)動，這時(shí)就會產(chǎn)生一定的振動波紋，影響機(jī)械加工生產(chǎn)。

因機(jī)械故障而產(chǎn)生的振動，多屬于受迫振動和自激振動。

振動對設(shè)備的危害

振動會對設(shè)備的工作使用性能造成相應(yīng)的不良影響。在設(shè)備作業(yè)的操作過程中由于交替變化載荷會造成部件的疲勞和破損，在程度上影響了設(shè)備的使用壽命的情況，而化工設(shè)備在振動的操作過程中造成的噪聲也會對人體造成相應(yīng)的噪聲污染，對大家的身體健康造成不良影響。

減輕設(shè)備振動的方案

減振墊

阻尼大，安裝方便，應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體/FPD檢測設(shè)備、線性運(yùn)動平臺的精密測量、高精度測量工具、裝載運(yùn)動精密平臺的測量設(shè)備等。

高分子材料減振墊

垂直方向固有頻率低至6.0Hz，水平方向低至3.0Hz，減振性能媲美減振器，優(yōu)于橡膠減振墊。

主動減振器

長時(shí)間的圖像采集和持續(xù)的探針測量，就需要穩(wěn)定的微振解決設(shè)備，同時(shí)一些高分辨率的顯微鏡，為了得到更清晰的圖像，也需要配備微振解決設(shè)備。三思減振THA主動減振器在六個自由角度方向均有非常好的減振性能，為進(jìn)行納米測量提供有效的解決方案。

被動減振器

三思減振THS系列被動減振器主要用于半導(dǎo)體、面板、光學(xué)設(shè)備、3C設(shè)備、5G設(shè)備、及檢測設(shè)備。所需的穩(wěn)定時(shí)間降至最低，有效提供減振及衰減性能，因此可用于在不同速度、負(fù)載運(yùn)動的平臺。

光學(xué)平臺

光學(xué)平臺針對精密光學(xué)實(shí)驗(yàn)而精心設(shè)計(jì)的高性能減振平臺，能夠不受周邊環(huán)境影響，進(jìn)行有效的精密光學(xué)實(shí)驗(yàn)。